LAM 660-072826-200射頻發(fā)電機

1.產(chǎn) 品 資 料 介 紹：

中文資料：

LAM 660-072826-200射頻發(fā)電機主要應用于半導體制造和高精度工藝中，提供穩(wěn)定的射頻能量，支持等離子體生成和控制。其主要應用領域包括：

1. 半導體制造：

• 化學氣相沉積（CVD）：為反應氣體提供能量，生成薄膜，應用于集成電路制造。
• 等離子體刻蝕：生成等離子體去除材料或形成微細圖案。

2. 等離子體處理：

• 等離子體清洗：去除污染物，確保材料表面的高質(zhì)量。
• 表面改性：增強材料的附著力、潤濕性等特性。

3. 微電子設備制造：

• 薄膜沉積：精確控制薄膜厚度和均勻性，應用于電子器件制造。

4. 光伏行業(yè)：

• 太陽能電池制造：用于薄膜沉積和刻蝕，確保高效能量轉(zhuǎn)換。

LAM 660-072826-200通過提供高效、穩(wěn)定的射頻輸出，支持多個高精度工業(yè)和科學領域。

英文資料：

The LAM 660-072826-200 RF generator is mainly used in semiconductor manufacturing and high-precision processes, providing stable RF energy and supporting plasma generation and control. Its main application areas include:

1. Semiconductor manufacturing:

Chemical Vapor Deposition (CVD): Provides energy to reaction gases, generates thin films, and is applied in integrated circuit manufacturing.

Plasma etching: Generating plasma to remove materials or form fine patterns.

2. Plasma treatment:

Plasma cleaning: Removing pollutants to ensure high-quality material surfaces.

Surface modification: enhances the adhesion, wettability, and other properties of materials.

3. Manufacturing of microelectronic devices:

Thin film deposition: precise control of thin film thickness and uniformity, applied in electronic device manufacturing.

4. Photovoltaic industry:

Solar cell manufacturing: used for thin film deposition and etching to ensure efficient energy conversion.

LAM 660-072826-200 supports multiple high-precision industrial and scientific fields by providing efficient and stable RF output.

2.產(chǎn)      品      展      示      

3.其他產(chǎn)品

Advantech PCL-81601采集板

ABSOLUTE PROCESS API4380GD隔離變送器

IS215UCCCM04AB 控制器板

4.其他英文產(chǎn)品

AMAT 0190-66253 Communication Module

ASEA DSMC110 Control Board

AMAT 0190-11415 Digital Input Module